йонни източници
Ние произвеждат йонни източници в две конфигурации - кръгли, с тръбен сноп и разширена със значително линеен участък. Линейната плътността на йонния ток от 18 mA / cm дължина на слот, или 36 mA / cm на дължина на източник зона на работната линия. диапазон Работно напрежение - 1..5 кV. дивергенцията на къси светлини позволява поставяне на източника отдалечава от целта си и да се намали скоростта на прах. Вторичният плазмата и ефекта на резонанс обмен на йони зареждане позволява обработка без използване диелектрици катодно-компенсатор.
Единици и оборудване
Блокове и вакуумна техника системи - променлива импеданса контрол устройство единици, трансформатори и вода охлаждаща система. Всички устройства са напълно автоматизирани, с възможността да се спаси опитните параметри и контрол за системата LAN или отдалечено през Интернет.
плазмени генератори
безелектродни високочестотна индуктивна плазмена изхвърлянето на - универсална среда за широка гама от процеси: йон и плазмено ецване, отлагане материали (включително реактивен), йон-плазмена обработка на повърхността (полиране, азотиране, карбонизация) и няколко други. Universal технологично устройство, предназначено - RPG-250 за създаване на хомогенен поток от йони на голяма площ и RPG-128, дава възможност за много по-висока концентрация в плазмата еднородността при една и съща мощност.
магнетрони
Нашите магнетрони позволяват пръскане на широка гама от материали директно от цел: метали, сплави и диелектрици в реактивен режим (SiO2 SI3 N4 TiO2 калай, ITO, ZnO, Al2 О3 AlN, MgO, ТА2 О5 тен и др .......) са произведени кръгови магнетрони, целевата 100 мм в диаметър и с цилиндрична форма, с дължина 145-1200 мм и цел на ширината целта на 80-100 мм. Целева дебелина - до 20 mm над магнетрони и 10 mm кръг.
Проектиран от творчески клуб JTemplate
Свързани статии